申请/专利权人：细美事有限公司

申请日：2023-10-17

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117917296A

主分类号：B23K26/362

分类号：B23K26/362;B23K26/70;B23K26/06;B23K26/073;B23K26/60;B23K26/00;H01L21/027;G03F7/20

优先权：["20221021 KR 10-2022-0136336"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.23#公开

摘要：本发明构思的实施例提供了一种基板处理设备和基板处理方法，其使得即使化学物质的晃动角因振动或气流而偏离允许范围，激光的照射区域也不偏离目标区域。本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：基板支撑单元，其配置成支撑其上涂覆有化学物质的基板；激光产生单元，其配置成向所述基板照射激光；以及光传输器，其沿着所述激光照射的路径定位。

主权项：1.一种基板处理设备，包括：基板支撑单元，其配置成支撑基板，在所述基板上涂覆有化学物质；激光产生单元，其配置成向所述基板照射激光；以及光传输器，其沿着所述激光照射的路径定位。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 细美事有限公司 基板处理设备和基板处理方法

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