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一种可调节笔式回弹LVDT位移传感器结构 

申请/专利权人:深圳市森瑟科技发展有限公司

申请日:2023-09-25

公开(公告)日:2024-05-03

公开(公告)号:CN220893248U

主分类号:G01B7/02

分类号:G01B7/02

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.03#授权

摘要:本实用新型公开了一种可调节笔式回弹LVDT位移传感器结构,包括线圈骨架,线圈骨架上中间缠绕有初级线圈,线圈骨架在初级线圈的两端设置有次级线圈,线圈骨架的外侧套设有屏蔽套,屏蔽套侧壁设置有漏磁调节缝隙,漏磁调节缝隙平行于线圈骨架方向,调节漏磁调节缝隙的宽度用于调节漏磁量。本实用新型把屏蔽套装到绕好的线圈的线圈骨架上,调节屏蔽套的漏磁调节缝隙宽度以调节磁感线的磁回路。当实际灵敏度比典型灵敏度高,增大漏磁调节缝隙宽度,使磁回路变大,降低传感器的灵敏度。当实际灵敏度比典型灵敏度低,减小漏磁调节缝隙宽度,使磁回路减小,增加传感器的灵敏度,从而使得传感器灵敏度一致,便于用户使用。

主权项:1.一种可调节笔式回弹LVDT位移传感器结构,包括线圈骨架,所述线圈骨架上中间缠绕有初级线圈,所述线圈骨架在所述初级线圈的两端设置有次级线圈,其特征在于,所述线圈骨架的外侧套设有屏蔽套,所述屏蔽套侧壁设置有漏磁调节缝隙,所述漏磁调节缝隙平行于所述线圈骨架方向,调节所述漏磁调节缝隙的宽度用于调节漏磁量。

全文数据:

权利要求:

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