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【发明公布】具备涡旋运动侧气体进给器的等离子体腔室_奈斯普拉兹玛株式会社_202280069534.2 

申请/专利权人:奈斯普拉兹玛株式会社

申请日:2022-09-16

公开(公告)日:2024-05-28

公开(公告)号:CN118103944A

主分类号:H01J37/32

分类号:H01J37/32

优先权:["20220622 KR 10-2022-0076382"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.06.14#实质审查的生效;2024.05.28#公开

摘要:本发明涉及一种具备涡旋运动侧气体进给器的等离子体腔室,其特征在于,包括:壳体,其具备上述晶片所安置的安置部;第一涡旋运动侧气体进给器,其具备于上述壳体的侧面,且向上述壳体的内部喷射气体;以及第二涡旋运动侧气体进给器,其具备于上述壳体的侧面,且向上述壳体的内部喷射气体,上述第一涡旋运动侧气体进给器和上述第二涡旋运动侧气体进给器沿着上述壳体的壁面喷射气体,上述第一涡旋运动侧气体进给器在沿着与上述安置部所形成的平面平行的方向延伸的平面上喷射气体,上述第二涡旋运动侧气体进给器相对于沿着与上述安置部所形成的平面平行的方向延伸的平面形成角度并喷射气体。

主权项:1.一种具备涡旋运动侧气体进给器的等离子体腔室,是为了蚀刻晶片而形成等离子体的等离子体腔室,所述具备涡旋运动侧气体进给器的等离子体腔室的特征在于,包括:壳体,其具备上述晶片所安置的安置部;第一涡旋运动侧气体进给器,其具备于上述壳体的侧面,且向上述壳体的内部喷射气体;以及,第二涡旋运动侧气体进给器,其具备于上述壳体的侧面,且向上述壳体的内部喷射气体,上述第一涡旋运动侧气体进给器和上述第二涡旋运动侧气体进给器沿着上述壳体的壁面喷射气体,上述第一涡旋运动侧气体进给器在沿着与上述安置部所形成的平面平行的方向延伸的平面上喷射气体,上述第二涡旋运动侧气体进给器相对于沿着与上述安置部所形成的平面平行的方向延伸的平面形成角度并喷射气体。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 奈斯普拉兹玛株式会社 具备涡旋运动侧气体进给器的等离子体腔室

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