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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日：2022-12-19
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118223003A
主分类号：C23C16/455
分类号：C23C16/455;C23C16/52;H01L21/67
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本申请公开一种半导体工艺设备及其进气装置，该进气装置包括：搅拌混气组件，安设在工艺腔室的顶侧，以将接入的至少两种气体搅拌混合后，按至少两个导气路径导向工艺腔室的内部；分级匀气组件，包括沿径向分级设置的中心匀气盘以及至少两个匀气模组，以分别将按其中一个导气路径导向过来的混合气体进行相应的匀流处理，使得最终经中心匀气盘以及每个匀气模组流出的混合气体的流量均相同；工艺匀气盘，包括至少两个匀气区域，以通过每个匀气区域将对应的中心匀气盘或匀气模组流出的混合气体均匀导向晶圆表面。本技术方案，其可在工艺过程中，将接入的至少两种气体充分混合后均匀导向工艺腔室内的晶圆表面，以提升工艺腔室的工艺稳定性。
主权项：1.一种半导体工艺设备的进气装置，其特征在于，所述进气装置包括：搅拌混气组件，安设在工艺腔室的顶侧，以将接入的至少两种气体搅拌混合后，按至少两个导气路径导向所述工艺腔室的内部；分级匀气组件，包括沿径向分级设置的中心匀气盘和至少一个匀气模组，所述中心匀气盘以及每个所述匀气模组分别将按其中一个所述导气路径导向过来的混合气体进行相应的匀流处理，使得最终经所述中心匀气盘及每个所述匀气模组流出的混合气体的流量均相同；所述工艺匀气盘，包括与所述中心匀气盘以及所述至少一个匀气模组一一对应的至少两个匀气区域，以通过每个所述匀气区域将对应的所述中心匀气盘或所述匀气模组流出的混合气体均匀导向晶圆表面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及其进气装置
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