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申请/专利权人：湖南蓝芯微电子科技有限公司
申请日：2024-03-13
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118156167A
主分类号：H01L21/66
分类号：H01L21/66;H01L21/67;H01L33/00;H05B3/54;H05B3/14;G05D23/30
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.07#公开
摘要：本发明涉及半导体技术领域，具体涉及一种提高波长均匀性的探温方法及系统。其方法包括：S1、将石墨承载盘的加热丝划分为若干个加热丝区域；S2、将每个所述加热丝区域的空隙内设置若干个补偿加热组件；S3、将所述石墨承载盘上所有外延片划分为多个点集；S4、计算已产出的外延片的平均波长、探测已产出的外延片在生长发光层时的平均温度；S5、设定待产出外延片的目标波长，得到待产出炉次的目标温度；S6、生长发光层时，各温度探测器在各所述目标区域移动探温；S7、若干个补偿加热组件不断改变部分区域的温度。本发明能够通过温度探测器与加热丝、补偿加热组件配合工作，使每一片外延片的波长分布均匀性更好。
主权项：1.一种提高波长均匀性的探温方法，其特征在于，所述方法包括：S1、将石墨承载盘2的加热丝划分为若干个加热丝区域，每个所述加热丝区域相互隔离，且每个所述加热丝区域上方分别有一个温度探测器用于探测控制所述加热丝区域的温度；S2、将每个所述加热丝区域的空隙内设置若干个补偿加热组件3；S3、将所述石墨承载盘2上所有外延片5划分为多个点集，得到多个目标区域4；S4、计算已产出的外延片的平均波长、探测已产出的外延片在生长发光层时的平均温度，根据已产出的平均波长、平均温度计算平均波长随平均温度变化的系数；S5、设定待产出外延片的目标波长，得到待产出炉次外延片的目标温度；S6、生长发光层时，各温度探测器在各所述目标区域4移动探温，使各目标区域4平均温度达到目标温度；S7、根据温度探测器测得的数据，若干个补偿加热组件3不断改变部分区域的温度，各目标区域4平均温度达到目标温度维持不变，保持各目标区域4的温度均匀性，维持波长的均匀性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖南蓝芯微电子科技有限公司 一种提高波长均匀性的探温方法及系统
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