申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2019-10-22
公开(公告)日:2024-06-11
公开(公告)号:CN112969968B
主分类号:G03F7/20
分类号:G03F7/20
优先权:["20181108 US 62/757,397"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.11#授权;2021.07.02#实质审查的生效;2021.06.15#公开
摘要:本文中描述的是一种用于确定概率模型的方法,该概率模型被配置为预测受图案化处理的衬底的图案的特性例如,缺陷、CD等。该方法包括获取与衬底上的图案的特性相对应的残差的分布的空间图,基于在空间图内的残差的分布的变化来确定空间图的区域,以及基于区域和区域内的衬底上的残差的值的分布或图案的特性的值的分布来确定概率模型。
主权项:1.一种用于确定概率模型的方法,所述概率模型被配置为预测受图案化过程的衬底上的图案的特性,所述方法包括:获取与所述衬底上的所述图案的所述特性相对应的残差的分布的空间图;经由计算系统基于在所述空间图内的所述残差的所述分布的变化来确定所述空间图的区域;以及经由所述计算系统基于所述区域和所述区域内的所述衬底上的所述残差的值的所述分布或所述图案的所述特性的值的所述分布来确定所述概率模型。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 基于过程变化度的空间特性对不合格的预测
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