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申请/专利权人：应用材料公司
申请日：2019-04-09
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118192175A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G03F9/00
优先权：["20180629 US 62/692,323"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本文所论述的系统和方法的实施方式通过预处理经由成像系统的通道接收的图像数据来使成像设备自动聚焦，所述成像系统包括激光束和传感器，所述传感器被配置为当在跨基板的像素级应用中跨基板施加激光束时，接收图像数据。所述基板可包括光刻胶和金属材料两者，并且所述传感器所接收的所述图像包括来自所述金属材料的噪声。在所述图像数据的预处理期间，确定要从所述图像数据去除的噪声百分比，并且对图像数据进行滤波。针对每个通道计算所述基板的质心，并且确定用于曝光的聚焦偏差。可使用一个或多个滤波机制来组合多个质心，并且所述成像系统可通过在一个或多个方向中移动工作台和或曝光源而在曝光位置自动聚焦。
主权项：1.一种将基板图案化的方法，所述方法包括：将多个激光束施加到定位在工作台上的基板，所述基板包括光刻胶和金属材料，所述基板进一步包括多个像素；当将所述多个激光束施加到所述基板时，通过耦接到成像设备的多个传感器来接收所述多个像素的每个像素的多个图像；至少部分地基于所述多个像素的每个像素的所述多个图像，确定所述成像设备的曝光源的曝光位置；将所述基板从初始位置调整到所述曝光位置，以将所述曝光源自动聚焦于所述基板上；和在所述调整之后，将所述基板曝光于所述曝光源，以在所述基板中形成多个特征。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦
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