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【发明公布】激光图案化加工微纳米结构的可调应变传感器及制备方法_北京航空航天大学宁波创新研究院_202410345055.X 

申请/专利权人:北京航空航天大学宁波创新研究院

申请日:2024-03-25

公开(公告)日:2024-06-14

公开(公告)号:CN118189796A

主分类号:G01B7/16

分类号:G01B7/16

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.14#公开

摘要:本发明公开了一种激光图案化加工微纳米结构的可调应变传感器及制备方法,涉及柔性可穿戴电子器件领域,将硅橡胶的单体和固化剂混合,并将得到的混合物除气泡、薄膜化和加热固化;溶剂辅助法激光图案化表面处理,得到微纳米结构;多级微纳米结构表面共形涂覆导电层;封装、引线制作成应变传感器件。本发明提供通过激光表面处理得到多级微纳米结构增大比表面积,通过控制微纳米结构沟壑的排列方向,实现随着柔性基底拉伸条件下的灵敏度可调,应变灵敏系数在3.4‑4570.6之间,进而带来应变传感器件对不同变形场景下的不同信号反馈强度,同时可以应用为开关功能。

主权项:1.激光图案化加工微纳米结构的可调应变传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、配置柔性基底:将硅橡胶的单体和固化剂混合,加入着色物质,进行搅拌混合,除气泡,刮成薄膜并加热固化,得到表面平整的柔性基底;S2、溶液辅助激光表面图案化处理:用激光选择性处理硅橡胶柔性基底表面,同时在表面滴加功能溶液,使激光与柔性基底作用界面处于溶液环境中;S3、多级微纳米结构表面共形涂覆导电层:先用等离子清洗对微纳米结构表面进行极化处理,再将纳米级金属颗粒和粒子喷印到或者沉积到微纳米结构表面,制作共形的导电层;S4、封装、引线制作成应变传感器件:将具有微纳米结构的柔性导电基底两端连接电极。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京航空航天大学宁波创新研究院 激光图案化加工微纳米结构的可调应变传感器及制备方法

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