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2-杂芳基吡啶化合物的制造方法 

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申请/专利权人:日本曹达株式会社

摘要:本发明提供一种式3表示的化合物的制造方法、以及式4表示的化合物的制造方法等,所述式3表示的化合物的制造方法包括:使式1表示的化合物与式2表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应,所述式4表示的化合物的制造方法包括:使式3表示的化合物与羟胺或其盐进行化学反应、以及使上述化学反应的产物进行脱水反应。在式1中,Q表示取代或无取代的五~六元或九~十元杂芳基,R1表示C1~6烷基。在式2中,R2表示氢原子、取代或无取代的C1~6烷基、取代或无取代的C3~6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五~六元杂芳基。在式3中,Q、R1和R2表示与式1中和式2中的Q、R1和R2相同的基团。在式4中,Q、R1和R2表示与式3中的Q、R1和R2相同的基团。

主权项:1.一种式3表示的化合物的制造方法,包括:使式1表示的化合物与式2表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应, 在式1中,Q表示取代或无取代的五~六元或九~十元杂芳基,R1表示C1~6烷基, 在式2中,R2表示氢原子、取代或无取代的C1~6烷基、取代或无取代的C3~6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五~六元杂芳基, 在式3中,Q、R1和R2表示与式1中和式2中的Q、R1和R2相同的基团。

全文数据:

权利要求:

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