申请/专利权人：核工业南京建设集团有限公司;中国核电工程有限公司

申请日：2021-05-21

公开（公告）日：2024-06-14

公开（公告）号：CN115388723B

主分类号：F42D1/00

分类号：F42D1/00;F42D1/08;F42D1/18;F42D1/055;F42D3/04

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.14#授权;2022.12.13#实质审查的生效;2022.11.25#公开

摘要：本发明涉及爆破掘进技术领域，具体而言涉及大断面洞穴爆破结构和爆破方法，包括：掏槽孔，由开设于掘进作业面的空孔和位于空孔周围的四个装药孔构成；主爆孔，设置于掏槽孔的外围，被设置成孔间间隔起爆；周边孔，被设置在主爆孔的外围；其中，所述装药孔内设有间隔分布的装药段和堵塞段，且间隔分布的装药段被设置成孔内延时起爆，所述主爆孔内设有间隔且延时起爆的装药段，所述周边孔内设有聚能水介质装药结构。本发明能在不改变现有的凿岩设备和生产技术的条件下，达到更深的进尺深度，更少的用药量，增加破碎效果，并达到更好的爆破开挖效果，减少爆破中震动以及支护工作。

主权项：1.一种大断面洞穴爆破结构，其特征在于，包括：掏槽孔，由开设于掘进作业面的空孔和位于空孔周围的四个装药孔构成；主爆孔，设置于掏槽孔的外围，被设置成孔间间隔起爆；周边孔，被设置在主爆孔的外围；其中，所述装药孔内设有间隔分布的装药段和堵塞段，且间隔分布的装药段被设置成孔内延时起爆，所述主爆孔内设有间隔且延时起爆的装药段，所述周边孔内设有聚能水介质装药结构；所述空孔的深度比装药孔的深度深30-50cm，所述空孔的底部设有抛掷装药段；主爆孔内设有孔口堵塞段、正常装药段和底部加强段，正常装药段和底部加强段内均包含间隔分布的装药段和堵塞段，其中，位于正常装药段内的装药段A和堵塞段A的长度均为300mm，位于底部加强段的装药段B长度为300mm，堵塞段B长度为50mm；定义中心空孔周围依次分布的四个装药孔为装药孔A、装药孔B、装药孔C和装药孔D，装药孔A内的装药段由外至内的定义为A1、A2···AN，装药孔B内的装药段由外至内的定义为B1、B2···BN，装药孔C内的装药段由外至内的定义为C1、C2···CN，装药孔D内的装药段由外至内的定义为D1、D2···DN，炸药被引爆的顺序为：A1、B1、C1、D1同时起爆，间隔12ms，A2、B2、C2、D2同时起爆，···，间隔12ms，AN、BN、CN、DN同时起爆；所述主爆孔包括由掏槽孔逐渐靠近周边孔的一次主爆孔、二次主爆孔和三次主爆孔，一次主爆孔、二次主爆孔、三次主爆孔被设置成孔间间隔起爆；掏槽孔采用间隔延时起爆的方式；装药孔内的药卷被由外至内以12ms时间间隔微差起爆，装药孔中最后一卷炸药引爆后间隔5ms后空孔底部装药起爆，装药孔、一次主爆孔、二次主爆孔、三次主爆孔和周边孔间隔25ms起爆，一次主爆孔、二次主爆孔和三次主爆孔内的药卷被由外至内以12ms时间间隔微差起爆。

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权利要求：

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