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【发明授权】一种高致密Bi-Sn三维电极及其制备方法与应用_辽宁东科电力有限公司_202211504754.1 

申请/专利权人:辽宁东科电力有限公司

申请日:2022-11-29

公开(公告)日:2024-06-14

公开(公告)号:CN115928128B

主分类号:C25B11/089

分类号:C25B11/089;C25B11/065;C25B3/07

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.14#授权;2023.04.25#实质审查的生效;2023.04.07#公开

摘要:本发明涉及一种高致密Bi‑Sn三维电极及其制备方法,及其在电催化CO2还原制甲酸中的应用,首先通过在三维碳基底表面电沉积高致密Sn颗粒作为形核生长位点,再生长Bi枝晶,进一步通过化学氧化‑电化学还原法制备Bi‑Sn纳米颗粒,得到高致密Bi‑Sn三维电极。本发明制备的高致密Bi‑Sn三维电极能高稳定高选择地电催化还原CO2制甲酸,且制备工艺简单,成本低廉,环境友好,易于工业化生产。

主权项:1.一种高致密Bi-Sn三维电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)将四水合氯化锡溶于去离子水中得到SnCl4溶液;将五水合硝酸铋溶于1.2molL-1冰醋酸溶液中得到Bi3+电沉积液;将碳酸氢钾溶于去离子水中得到KHCO3溶液;2)以三维碳基底为工作电极、Pt片为对电极、AgAgCl饱和KCl电极为参比电极,以步骤1)制备的SnCl4溶液为电解液,对工作电极施加-5~-2Vvs.AgAgCl的恒定电位电沉积20~70s,得到SnC电极,用清水清洗数次,备用;3)以步骤2)得到的SnC电极为工作电极、Pt片为对电极、AgAgCl饱和KCl电极为参比电极,以步骤1)制备的Bi3+电沉积液为电解液,对工作电极施加-1.2~-0.4Vvs.AgAgCl的恒定电位电沉积80~200s,得到枝晶状Bi-SnC电极,用清水清洗数次,备用;4)将步骤3)得到的枝晶状Bi-SnC电极浸泡在通入饱和O2的KHCO3溶液中,浸泡时间为12~48h,得到Bi2O2CO3-SnC电极,用清水清洗数次,备用;5)以步骤4)得到的Bi2O2CO3-SnC电极为工作电极、Pt片为对电极、AgAgCl饱和KCl电极为参比电极,以通入饱和N2的KHCO3溶液为电解液,对工作电极施加-1.9~-1.0Vvs.AgAgCl的恒定电位电沉积0.5~3h,得到高致密Bi-Sn三维电极,用清水清洗数次。

全文数据:

权利要求:

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