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申请/专利权人：伟摩有限责任公司
摘要：这里描述的系统和方法涉及光学元件和光学系统的制造。示例系统可以包括光学部件，该光学部件配置为引导来自光源的光从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料并将光致抗蚀剂材料中的成角度结构的至少一部分曝光，其中光致抗蚀剂材料覆盖基板的顶表面的至少一部分。光学部件包括容纳光耦合材料的容器，该光耦合材料部分地基于期望的角度来选择。光学部件还包括反射镜，该反射镜布置为反射光的至少一部分从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料。
主权项：1.一种用于制造光学元件的系统，包括：第一掩模，其中所述第一掩模包括一个或更多个开口，光学部件，配置为将由光源发射的光通过所述第一掩模的所述一个或更多个开口引导到所述光学部件中从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料并曝光所述光致抗蚀剂材料中的成角度结构，其中所述光致抗蚀剂材料覆盖基板的顶表面的至少一部分，并且其中所述光学部件包括：容器，容纳光耦合材料，所述光耦合材料部分地基于所述期望的角度来选择；以及反射镜，布置为反射所发射光的仅第一部分从而以所述期望的角度照射所述光致抗蚀剂材料；以及第二掩模，布置在所述光致抗蚀剂材料附近，其中所述第二掩模配置为在所述光致抗蚀剂材料中定义单独的期望结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 伟摩有限责任公司 利用成角度光刻制造光导元件的系统和方法
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