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【发明授权】电极结构体检查方法_本田技研工业株式会社_202010666360.0 

申请/专利权人:本田技研工业株式会社

申请日:2020-07-10

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN112577978B

主分类号:G01N23/046

分类号:G01N23/046;H01M8/1004

优先权:["20190930 JP 2019-180520"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2021.04.16#实质审查的生效;2021.03.30#公开

摘要:本发明提供一种电极结构体检查方法,其可短时间且高精度地判断包括阴极电极层、电解质层、及阳极电极层的电极结构体有无缺陷。电极结构体检查方法是利用图像处理装置来判定包括阴极电极层、电解质层、及阳极电极层的电极结构体有无缺陷的方法,包括:沿扫描方向扫描电极结构体,获取电极结构体的连续的X射线透射图像的步骤;将X射线透射图像的各像素的浓淡数值化的步骤;计算特定像素的浓淡值、与沿着扫描方向相对于所述特定像素位于前方或后方的多个比较像素的浓淡值的中央值的差值的步骤;以及基于差值与规定的判定阈值的比较来判定有无缺陷的步骤。

主权项:1.一种电极结构体检查方法,利用计算机来判定包括阴极电极层、电解质层、及阳极电极层的电极结构体有无缺陷,所述电极结构体检查方法的特征在于包括:第一步骤,沿扫描方向扫描所述电极结构体,获取所述电极结构体的连续的透射图像;第二步骤,将所述透射图像的各像素的浓淡数值化;第三步骤,计算基于特定像素的浓淡值而计算出的数值、与基于沿着所述扫描方向相对于所述特定像素位于前方或后方的比较像素的浓淡值而计算出的数值的差值;以及第四步骤,基于所述差值与规定阈值的比较来判定有无缺陷,在所述电极结构体中的沿着所述扫描方向位于两侧的端部区域中,不存在所述阴极电极层及所述阳极电极层此两者或任意一者,在所述第一步骤中,以包含所述电极结构体中的所述端部区域的方式进行扫描,在所述第三步骤中,至少将所述端部区域中的像素作为所述特定像素来计算所述差值。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 本田技研工业株式会社 电极结构体检查方法

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