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申请/专利权人：西北有色金属研究院
申请日：2024-03-25
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118222992A
主分类号：C23C14/35
分类号：C23C14/35;C23C14/18
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明公开了一种异质结构纳米晶钽钨合金薄膜及其制备方法，该方法选用电子束真空熔炼制备的钽钨合金作为靶材，使用直流磁控溅射方法在衬底上制备由接近衬底的小晶粒尺寸柱状晶结构和接近表面的大晶粒尺寸柱状晶结构组成的异质结构纳米晶钽钨合金薄膜。本发明采用直流磁控溅射方法，选用钽钨合金作为靶材，通过调控直流磁控溅射参数包括溅射功率、溅射时间和衬底温度以调节薄膜结构，获得小晶粒尺寸和大晶粒尺寸柱状晶结构混合的双峰异质结构纳米晶钽钨合金薄膜，提高了钽钨合金薄膜的硬度，该钽钨合金薄膜适用于炮管涂层、刀具涂层等领域。
主权项：1.一种异质结构纳米晶钽钨合金薄膜的制备方法，其特征在于，该方法选用电子束真空熔炼制备的钽钨合金作为靶材，使用直流磁控溅射方法在衬底上制备异质结构纳米晶钽钨合金薄膜；所述钽钨合金靶材中各元素的质量百分比为：Ta88％～98％，W2％～12％；所述异质结构纳米晶钽钨合金薄膜由接近衬底的小晶粒尺寸柱状晶结构和接近表面的大晶粒尺寸柱状晶结构组成。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西北有色金属研究院 一种异质结构纳米晶钽钨合金薄膜及其制备方法
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