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申请/专利权人：细美事有限公司
申请日：2023-11-23
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118219682A
主分类号：B41J3/407
分类号：B41J3/407;H01L21/67;H10K71/00;H10K71/13;H10K71/60;B41J2/01;B41J2/045
优先权：["20221220 KR 10-2022-0179767"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本公开提供了基于由喷墨头单元排出的基板处理溶液的位置再现性来管理喷墨头单元的质量和寿命的控制单元及包括其的基板处理装置。基板处理装置包括：工艺处理单元，支承基板；喷墨头单元，将基板处理溶液以液滴的形式排出到基板上；门架单元，使喷墨头单元移动；以及控制单元，控制喷墨头单元，其中，控制单元基于液滴的位置再现性来确定是否替换喷墨头单元。
主权项：1.一种基板处理装置，包括：工艺处理单元，支承基板；喷墨头单元，将基板处理溶液以液滴的形式排出到所述基板上；门架单元，使所述喷墨头单元移动；以及控制单元，控制所述喷墨头单元，其中，所述控制单元基于所述液滴的位置再现性来确定是否替换所述喷墨头单元。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 细美事有限公司 控制单元及包括其的基板处理装置
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