申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2021-01-31

公开（公告）日：2024-06-21

公开（公告）号：CN118231221A

主分类号：H01J61/52

分类号：H01J61/52;H01J61/28;H01J61/30

优先权：["20200205 US 62/970,287","20210125 US 17/157,782"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.06.21#公开

摘要：本申请实施例涉及具有高压流的激光维持的等离子体光源。本发明公开一种宽带辐射源。该源可包含经配置以维持等离子体且发射宽带辐射的气体围阻容器。该源还可包含流体耦合到该气体围阻容器的再循环气体回路。该再循环气体回路可经配置以运送来自一或多个气体增压器的气体，该一或多个气体增压器经配置以将低压气体加压成高压气体且经由出口将该高压气体运送到该再循环回路。该系统包含流体耦合到该一或多个气体增压器的该出口且经配置以接收及存储来自该一或多个气体增压器的高压气体的加压气体贮存器。该源包含定位于该一或多个气体增压器与该气体围阻容器之间且经配置以接收及存储来自该一或多个气体增压器的高压气体的加压气体贮存器。

主权项：1.一种气体再循环设备，其包括：气体围阻容器，其经配置以接收来自泵浦源的激光辐射以在流动通过所述气体围阻容器的气体内维持等离子体，其中所述气体围阻容器经配置以将气体从所述气体围阻容器的入口运送到所述气体围阻容器的出口，其中所述气体围阻容器进一步经配置以传输由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分；再循环气体回路，其流体耦合到所述气体围阻容器，其中所述再循环气体回路的第一部分流体耦合到所述气体围阻容器的所述出口且经配置以从所述气体围阻容器的所述出口接收来自所述等离子体的经加热气体或卷流；一或多个气体增压器，其中所述一或多个气体增压器流体耦合到所述再循环气体回路，其中所述一或多个气体增压器的入口经配置以接收来自所述再循环气体回路的低压气体，且其中所述一或多个气体增压器经配置以将所述低压气体加压成高压气体且经由出口将所述高压气体运送到所述再循环气体回路；及其中所述再循环气体回路的第二部分流体耦合到所述气体围阻容器的所述入口且经配置以将加压气体从所述一或多个气体增压器运送到所述气体围阻容器的所述入口，其中所述一或多个气体增压器包括两个或更多个气体增压器，其中所述两个或更多个气体增压器串联连接，其中所述两个或更多个气体增压器包括串联流体耦合到所述再循环气体回路的第一气体增压器及第二气体增压器，其中所述第一气体增压器经配置以接收来自所述气体围阻容器的气体，且其中所述第二气体增压器经配置以接收来自所述第一气体增压器的经加热气体。

全文数据：

权利要求：

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