申请/专利权人：江西晓明智能科技有限公司

申请日：2024-03-28

公开（公告）日：2024-06-21

公开（公告）号：CN118226670A

主分类号：G02F1/1333

分类号：G02F1/1333;G02F1/13

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.06.21#公开

摘要：本发明涉及技术领域，尤其涉及一种双面ITO的LCD产品制作工艺。包括如下工艺流程：S1）选择双面ITO基板玻璃；并依次进行第一次清洗、背面涂光刻胶、曝光、显影、冲洗、正面涂光刻胶、坚膜、蚀刻、去胶、背面沉积保护层、第二次清洗、正面涂光刻胶、曝光、显影、坚膜、正面蚀刻、去胶后进入LCD正常生产流程。本发明在背面与正面的蚀刻工序中，分别采用光刻胶层和自组装单分子层SAM作为ITO的覆盖保护，有效解决了双面ITO图案生产工序中的蚀刻液腐蚀问题，保证了基板玻璃双面ITO图案的完整性和精确性。

主权项：1.一种双面ITO的LCD产品制作工艺，其特征在于，包括如下工艺流程：S1）选择双面ITO基板玻璃：根据不同的电子设备使用要求选择适当电阻率、透光率和尺寸规格的双面ITO基板玻璃；S2）第一次清洗：在无尘室环境下，使用去离子水和专用清洗剂对玻璃基板进行清洗；确保基板表面无尘埃、油污或其他杂质；S3）背面涂光刻胶：将基板玻璃放置在旋涂机上，背面朝上并均匀涂覆一层光刻胶；并使用预热装置对涂覆后的基板进行软烘，以去除溶剂并增强光刻胶的附着力；S4）曝光：将预热后的基板玻璃移至曝光机，使用预制图案的掩模板（mask）和紫外光源对基板玻璃表面的光刻胶进行精确曝光；S5）显影：使用显影液处理基曝光后的基板玻璃表面，曝光区域的光刻胶层会被显影剂溶解掉，留下未曝光区域的光刻胶层，形成所需图案；S6）冲洗：显影完成后应立即使用去离子水将基板玻璃冲洗干净，以避免残余的显影液继续腐蚀光刻胶；S7）正面涂光刻胶：参照步骤S3，在基板玻璃的正面涂覆光刻胶并进行预热；S8）坚膜：将涂有光刻胶的基板玻璃进行坚膜处理，通过加温烘烤使光刻胶膜更加牢固的粘附在基板玻璃表面，增强光刻胶的稳定性；S9）背面蚀刻：将基板玻璃放入蚀刻液中，基板玻璃背面未被光刻胶保护的ITO区域被蚀刻掉，从而形成基板玻璃背面所需的ITO图案；背面蚀刻过程中，基板玻璃正面的ITO被光刻胶覆盖保护，能够防止蚀刻液侵蚀；S10）去胶：使用去胶液将基板玻璃两面的光刻胶作彻底清除；再使用去离子水将基板玻璃清洗干净并干燥备用；S11）背面沉积SAM保护层：通过特定工艺将SAM材料均匀地沉积在基板玻璃背面ITO图案的表面，形成一层致密的SAM保护层；S12）第二次清洗：重复步骤S2；S13）正面涂光刻胶：参照步骤S3，在基板玻璃的正面涂覆光刻胶并进行预热；S13）：依次重复步骤S4）曝光、S5）显影、S6）冲洗、S8）坚膜；S14）正面蚀刻：将基板玻璃放入蚀刻液中，基板玻璃正面未被光刻胶保护的ITO区域被蚀刻掉，从而形成基板玻璃正面所需的ITO图案；正面蚀刻过程中，基板玻璃背面的ITO图案被SAM保护层覆盖，能够防止蚀刻液侵蚀；S15）：重复步骤S10）去胶，初步完成LCD产品制作工艺中双面ITO图案的基板玻璃，再依照LCD正常生产流程进入下一步骤。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江西晓明智能科技有限公司 一种双面ITO的LCD产品制作工艺

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