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申请/专利权人：中山智隆新材料科技有限公司
摘要：本申请涉及ITO靶材技术领域，本申请公开了一种高均匀性ITO靶材及其制备方法。一种高均匀性ITO靶材，包括以下重量份数原料：ITO粉体96.5‑99.5份，CuNi纳米复合物0.5‑3.5份；其中，ITO粉体中氧化铟和氧化锡的重量比为8.8‑9.3:1。本申请采用特定的原料以及配比，制备得到的ITO靶材综合性能优异，可有效地解决现有靶材内部微观组织不均匀以及在烧结过程中容易产生变形、翘曲、开裂等问题。
主权项：1.一种高均匀性ITO靶材，其特征在于，包括以下重量份数原料：ITO粉体96.5-99.5份，CuNi纳米复合物0.5-3.5份；其中，ITO粉体中氧化铟和氧化锡的重量比为8.8-9.3:1。
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权利要求：
百度查询： 中山智隆新材料科技有限公司 一种高均匀性ITO靶材及其制备方法
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