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申请/专利权人：阜阳市镓数氮化物产业研究院有限公司
申请日：2024-02-21
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118219184A
主分类号：B24C1/08
分类号：B24C1/08;H01L21/02;B24C5/02;B24C7/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明公开了一种用于制备GaN合金衬底片的纳米水射流定向抛光方法，1将GaN合金衬底片进行磨平，进行定向后固定在夹具上；2将不大于50nm的氧化物胶体溶液进行加热；3通过喷头组喷射高压氧化物胶体溶液对GaN合金衬底片表面进行刻蚀，形成微阶梯构成的斜面；4利用纳米水射流系统中喷头组喷射高压氧化物胶体溶液对衬底片表面微阶梯结构进行抛光，使衬底表面形成光滑的斜面；本发明通过纳米氧化物溶胶为磨液，以纳米水射流方式在GaN合金衬底片形成微阶梯斜面，然后采用纳米水射流对微阶梯斜面进行抛光，方便实现GaN合金衬底偏角的定制，衬底材料损耗小，无表面热损伤，无机械损伤，抛光面质量高。
主权项：1.一种用于制备GaN合金衬底片的纳米水射流定向抛光方法，其特征在于，其步骤如下：1将GaN合金衬底片进行磨平，然后进行精确定向后固定在CNC数控系统夹具上；2将不大于50nm的氧化物胶体溶液置于加热箱中加热，同时进行搅拌防止溶胶沉积；3通过纳米水射流系统中喷头组垂直喷射高压氧化物胶体溶液对GaN合金衬底片表面进行刻蚀，并在衬底片表面形成微阶梯构成的斜面；4利用纳米水射流系统中喷头组垂直喷射高压氧化物胶体溶液对衬底片表面微阶梯结构进行抛光，使衬底表面形成光滑的斜面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 阜阳市镓数氮化物产业研究院有限公司 一种用于制备GaN合金衬底片的纳米水射流定向抛光方法
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