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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日：2021-03-05
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN113113329B
主分类号：H01L21/67
分类号：H01L21/67;C23C16/54
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权;2021.07.30#实质审查的生效;2021.07.13#公开
摘要：本发明实施例提供了一种外延设备监测方法和装置，所述方法包括：确定所述外延设备的当前工作状态；若所述当前工作状态为预设工作状态，则获取在所述当前工作状态下的所述加热元件的实际功率信息；根据所述实际功率信息判断所述反射屏是否损坏。根据本发明实施例，监测外延设备在进行晶片处理工艺时的实际功率信息，并根据其判断反射屏是否损坏，能够有效避免在反射屏损坏的情况下继续进行晶片工艺处理给外延设备中的其他部件带来的负面影响，保护其他部件的使用寿命，进而降低外延设备的维护成本。
主权项：1.一种外延设备监测方法，其特征在于，所述外延设备包括反射屏和加热元件，所述方法包括：确定所述外延设备的当前工作状态；若所述当前工作状态为预设工作状态，则获取在所述当前工作状态下的所述加热元件的实际功率信息；根据所述实际功率信息和当前工作状态对应的预设功率信息判断所述反射屏是否损坏。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 一种外延设备监测方法和相应的外延设备监测装置
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