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【发明授权】刻蚀工艺方法及装置_北京北方华创微电子装备有限公司_202110301034.4 

申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

申请日:2021-03-22

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN113097062B

主分类号:H01L21/3065

分类号:H01L21/3065;H01L21/67

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2021.07.27#实质审查的生效;2021.07.09#公开

摘要:本申请实施例公开了一种刻蚀工艺方法及装置,用以解决现有的刻蚀工艺导致顶部扇贝尺寸过大、且各分段刻蚀工艺之间难以平滑过渡的问题。所述方法包括:获取刻蚀工艺对应的第一刻蚀参数信息,以及对刻蚀工艺进行分段执行的分段参数信息;根据第一刻蚀参数信息和分段参数信息,确定各分段刻蚀工艺分别对应的第二刻蚀参数信息;其中,各分段刻蚀工艺均包括多个循环执行的工艺步骤;根据各分段刻蚀工艺分别对应的第二刻蚀参数信息,分段执行刻蚀工艺。该技术方案能够减小顶部扇贝尺寸,且使得每两个相邻的分段刻蚀工艺之间能够平滑过渡。

主权项:1.一种刻蚀工艺方法,其特征在于,包括:获取所述刻蚀工艺对应的第一刻蚀参数信息,以及对所述刻蚀工艺进行分段执行的分段参数信息;所述第一刻蚀参数信息包括所述刻蚀工艺原始工艺步骤的总循环次数、单步起始工艺参数和单步终末工艺参数;所述分段参数信息包括所述刻蚀工艺的分段数和各分段刻蚀工艺分别对应的分段因子;根据所述第一刻蚀参数信息和所述分段参数信息,确定各所述分段刻蚀工艺分别对应的第二刻蚀参数信息;其中,各所述分段刻蚀工艺均包括多个循环执行的工艺步骤,所述第二刻蚀参数信息包括各所述分段刻蚀工艺分别对应的单步起始参数、单步终末参数和循环次数,在任意两个相邻的所述分段刻蚀工艺中,前一所述分段刻蚀工艺的最后一个工艺步骤的所述单步终末参数与后一所述分段刻蚀工艺的首个工艺步骤的所述单步起始参数相同;根据各所述分段刻蚀工艺分别对应的所述第二刻蚀参数信息,分段执行所述刻蚀工艺。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 刻蚀工艺方法及装置

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