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申请/专利权人：日产化学株式会社
申请日：2022-08-31
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN118215887A
主分类号：G03F7/11
分类号：G03F7/11;H01L21/027
优先权：["20210913 JP 2021-148885"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.18#公开
摘要：包含下述式1所示的化合物和溶剂的、抗蚀剂下层膜形成用组合物。在式1中，X各自独立地表示卤原子、或具有至少1个卤原子的1价有机基。Y表示n价基团。n表示2～6的整数。
主权项：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含下述式1所示的化合物、和溶剂， 在式1中，X各自独立地表示卤原子、或具有至少1个卤原子的1价有机基；Y表示n价基团；n表示2～6的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 抗蚀剂下层膜形成用组合物
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