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申请/专利权人：日产化学株式会社
摘要：一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有膜形成成分和溶剂，上述膜形成成分包含20质量％以上的含有特定结构的成分，上述含有特定结构的成分包含含有芳香族环的第1结构和含有氮原子的第2结构中的至少任一者，上述第1结构包含与上述芳香族环直接连接的下述式1所示的基团，上述第2结构包含与上述氮原子直接连接的下述式1所示的基团。在式1中，R1表示碳原子数1～6的亚烷基，R2表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、或总碳原子数2～10的烷氧基烷基。*表示结合键。*‑R1‑O‑R2。
主权项：1.一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有膜形成成分和溶剂，所述膜形成成分包含20质量％以上的含有特定结构的成分，所述含有特定结构的成分包含含有芳香族环的第1结构和含有氮原子的第2结构中的至少任一者，所述第1结构包含与所述芳香族环直接连接的下述式1所示的基团，所述第2结构包含与所述氮原子直接连接的下述式1所示的基团， 在式1中，R1表示碳原子数1～6的亚烷基，R2表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、或总碳原子数2～10的烷氧基烷基；＊表示结合键。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 含有烷氧基的抗蚀剂下层膜形成用组合物
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