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申请/专利权人：日产化学株式会社
摘要：提供显示良好的平坦化性，通过烧成而获得具有高的疏水性和气体透过性的膜，能够提高与疏水性的上层膜的密合性，而且通过变更树脂的分子骨架从而可以调整为适应于工艺的光学常数、蚀刻速度的纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物，是包含含有芳香族环的化合物、和有机溶剂的纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物，该组合物能够形成在同一温度下在大气中烧成时和在氮气气氛下烧成时的相对于纯水的接触角之差为26度以内的膜。
主权项：1.一种纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有芳香族环的化合物和有机溶剂，该组合物能够形成在同一温度下在大气中烧成时和在氮气气氛下烧成时相对于纯水的接触角之差为26度以内的膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物
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