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申请/专利权人：日产化学株式会社
申请日：2022-11-09
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118202304A
主分类号：G03F7/11
分类号：G03F7/11;C08F20/54
优先权：["20211110 JP 2021-183351"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有聚合物和溶剂，上述聚合物包含下述式1所示的重复单元。在式1中，R1表示碳原子数1～20的1价有机基。R2表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。
主权项：1.一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有聚合物和溶剂，所述聚合物包含下述式1所示的重复单元， 在式1中，R1表示碳原子数1～20的1价有机基；R2表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 含有丙烯酰胺基的抗蚀剂下层膜形成用组合物
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