龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：郑州合晶硅材料有限公司
申请日：2023-11-17
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN221192325U
主分类号：C23C16/458
分类号：C23C16/458
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权
摘要：本实用新型公开了一种改善硅片沉积氧化膜过程正面损伤的载盘，包括载盘本体，所述载盘本体的顶部设有用于放置硅片的凹槽，所述凹槽的底面为凹陷曲面，用于使所述硅片放置于所述凹槽内时，仅所述硅片的边缘与所述凹槽接触，所述硅片底部的中间区域为悬空状态；所述凹槽的底面上还设有贯穿所述载盘底部的定位孔。本申请设置的载盘，通过对凹槽结构的优化，可降低氧化膜沉积过程中载盘对硅片的正面损伤，同时采用无涂层设计，可避免载盘发生涂层脱落造成硅片压伤。另外采用石英导热板，可提高氧化膜沉积厚度的均匀性，进一步提高硅片品质。
主权项：1.一种改善硅片沉积氧化膜过程正面损伤的载盘，包括载盘本体，其特征在于，所述载盘本体的顶部设有用于放置硅片的凹槽，所述凹槽的底面为凹陷曲面，用于使所述硅片放置于所述凹槽内时，仅所述硅片的边缘与所述凹槽接触，所述硅片底部的中间区域为悬空状态；所述凹槽的底面上还设有贯穿所述载盘底部的定位孔。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 郑州合晶硅材料有限公司 一种改善硅片沉积氧化膜过程正面损伤的载盘
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号