申请/专利权人:厦门韫茂科技有限公司
申请日:2023-11-15
公开(公告)日:2024-06-21
公开(公告)号:CN221199978U
主分类号:G02B1/115
分类号:G02B1/115
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.21#授权
摘要:本实用新型提供了一种红光增透减反膜系,涉及光学薄膜层技术领域。包括至少第一光学薄膜层、第二光学薄膜层、第三光学薄膜层以及第四光学薄膜层从下到上依次交替叠置形成,其中,所述第一光学薄膜层与第三光学薄膜层的折射率在2.0~2.5之间,所述第二光学薄膜层与第四光学薄膜层的折射率在1.3~1.7之间。通过本实用新型方案,可以大大降低对红光的反射,提高红光的透过率。
主权项:1.一种红光增透减反膜系,其特征在于,包括:至少第一光学薄膜层、第二光学薄膜层、第三光学薄膜层以及第四光学薄膜层从下到上依次交替叠置形成,其中,所述第一光学薄膜层与第三光学薄膜层的折射率在2.0~2.5之间,所述第二光学薄膜层与第四光学薄膜层的折射率在1.3~1.7之间;所述第一光学薄膜层下方设置有基底层。
全文数据:
权利要求:
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