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一种套刻误差量测设备的仿真优化方法和装置 

申请/专利权人:中国科学院微电子研究所

申请日:2024-02-23

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118246195A

主分类号:G06F30/20

分类号:G06F30/20;G06F30/10

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本公开提供了一种套刻误差量测设备的仿真优化方法和装置,该方法包括:建立套刻误差量测设备的物理光学模型并进行仿真运行;获取所述物理光学模型的仿真运行结果,并根据所述仿真运行结果确定所述套刻误差量测设备的性能指标;根据所述性能指标,对物理光学模型的设备参数进行优化。本公开通过建立量测设备的物理光学模型,利用物理光学仿真过程,计算不同套刻标记和量测设备参数的套刻误差及各项性能指标,然后通过性能指标的仿真结果优化量测设备的各项设备参数,从而提高套刻误差的测量精度和工艺适应性,并有效缩短优化周期,降低优化成本。

主权项:1.一种套刻误差量测设备的仿真优化方法,其特征在于,包括:建立套刻误差量测设备的物理光学模型并进行仿真运行;获取所述物理光学模型的仿真运行结果,并根据所述仿真运行结果确定所述套刻误差量测设备的性能指标;根据所述性能指标,对物理光学模型的设备参数进行优化。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院微电子研究所 一种套刻误差量测设备的仿真优化方法和装置

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