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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2017-06-01
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN112925176B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G03F9/00
优先权：["20160609 EP 16173625.1"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开
摘要：一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。
主权项：1.一种用于光刻制造过程的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，包括激光器，所述激光器的输出被分成多个光学路径，每个光学路径包括各自的超连续谱生成器，每个所述超连续谱生成器包括光子晶体光纤，被分裂的输出仅传输通过所述光子晶体光纤以生成宽带辐射；光学系统，配置成使用来自所述辐射源的所述宽带辐射照射衬底上的结构；至少一个检测系统，配置成检测已经被所述结构散射的散射辐射；和处理器，配置成由所述散射辐射确定所述结构的感兴趣的参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 辐射源
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