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申请/专利权人：苏州山河光电科技有限公司
申请日：2024-03-29
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259454A
主分类号：G02B27/00
分类号：G02B27/00;G02B3/06;G02B1/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明揭示了一种超柱面镜的设计方法及装置，设计方法包括获取待设计超柱面镜的目标基元的初始尺寸参数和所述超柱面镜的目标光场分布；基于耦合模理论训练好的超柱面镜设计模型，根据所述初始尺寸参数得到所述超柱面镜的拟合光场分布；根据所述拟合光场分布和所述目标光场分布得到的损失更新，得到训练好的目标尺寸参数。超柱面镜设计模型结合了耦合模理论，可以更精确地体现光线在传播过程中经过相互耦合的基元作用下的光场分布，反之也可以基于其能更精确地反映基元的尺寸参数和光场分布的关系，通过目标光场分布确定出对应的基元的目标尺寸参数，设计速度更快、效果更好，满足了超柱面镜的设计工作的需求。
主权项：1.一种超柱面镜的设计方法，其特征在于，所述设计方法包括：获取待设计超柱面镜的目标基元的初始尺寸参数和所述超柱面镜的目标光场分布；基于训练好的超柱面镜设计模型，根据所述初始尺寸参数得到所述超柱面镜的拟合光场分布，其中，所述超柱面镜设计模型是由训练基元的尺寸参数、第一耦合系数、第二耦合系数和传播常数对神经网络训练得到的，所述第一耦合系数用于表征所述训练基元的近场电场与所述训练基元周围的预设关联基元的近场磁场的关联关系，所述第二耦合系数用于表征所述训练基元的近场电场与所述训练基元周围的预设关联基元的近场电场的关联关系，所述传播常数根据所述训练基元的有效折射率确定；根据所述拟合光场分布和所述目标光场分布，得到损失值；基于所述损失值更新所述初始尺寸参数，直至所述损失值收敛，得到训练好的目标尺寸参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州山河光电科技有限公司 超柱面镜的设计方法及装置
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