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一种高稳定真空压强控制系统 

申请/专利权人:成都天一国泰真空设备有限公司

申请日:2024-03-26

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118259703A

主分类号:G05D16/20

分类号:G05D16/20

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明公开了一种高稳定真空压强控制系统,属于真空压强控制技术领域,目的在于解决传统控制系统因为电磁阀的不线性和有开启阀值导致的进入控制过程慢、稳定度低,以及电磁阀的脉动开合导致的气流断续造成实际真空度波动的问题。其包括真空规管、真空测量控制仪、气体质量流量计,真空规管与真空测量控制仪电信号连接,真空测量控制仪与气体质量流量计电信号连接,真空规管的探测端设置在真空室内,气体质量流量计设置在真空室的气体输送管上。真空测量控制仪的信号放大与处理模块与真空规管电信号连接,信号放大与处理模块、真空度设定模块与比较模块电信号连接,比较模块与气体质量流量计电信号连接。本发明适用于一种高稳定真空压强控制系统。

主权项:1.一种高稳定真空压强控制系统,其特征在于,包括真空规管、真空测量控制仪、气体质量流量计,所述真空规管与真空测量控制仪电信号连接,所述真空测量控制仪与气体质量流量计电信号连接,所述真空规管的探测端设置在真空室内,所述气体质量流量计设置在真空室的气体输送管上。

全文数据:

权利要求:

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