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蒸发源喷嘴、蒸发源装置及蒸镀设备 

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

申请日:2024-03-28

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118256879A

主分类号:C23C14/24

分类号:C23C14/24;C23C14/12;C23C14/14;H10K71/16

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本申请提供了一种蒸发源喷嘴、蒸发源装置及蒸镀设备,属于OLED制备工艺技术领域,其中,蒸发源喷嘴包括喷嘴主体及连接凸台,喷嘴主体设有贯穿的第一喷发通道;连接凸台,一端与所述喷嘴主体连接,另一端与容纳蒸镀材料的坩埚舟的出口连通,所述连接凸台内设有贯穿的第二喷发通道,蒸镀材料依次通过所述第一喷发通道和所述第二喷发通道射出;所述第一喷发通道在所述坩埚舟上的投影落入所述第二喷发通道在所述坩埚舟上的投影中。本申请提供的蒸发源喷嘴,在不改动原有喷嘴直径的前提下利用连接凸台形成内径变化的流道,通过第二喷发通道和第一喷发通道的内径变化提升了蒸镀材料的喷出流速,从而增强了蒸镀材料指向性,避免出现蒸镀阴影。

主权项:1.一种蒸发源喷嘴,其特征在于,包括:喷嘴主体,设有贯穿的第一喷发通道;连接凸台,一端与所述喷嘴主体连接,另一端与容纳蒸镀材料的坩埚舟的出口连通,所述连接凸台内设有贯穿的第二喷发通道,蒸镀材料依次通过所述第一喷发通道和所述第二喷发通道射出;所述第一喷发通道在所述坩埚舟上的投影落入所述第二喷发通道在所述坩埚舟上的投影中。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源喷嘴、蒸发源装置及蒸镀设备

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