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申请/专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
摘要：本公开提供了一种光刻板、芯片模组及光刻机，涉及芯片制造技术领域。其中，光刻板包括：第一反射层、掩膜层和第二反射层；掩膜层设在第一反射层和第二反射层之间，对入射光场进行空间调制；第一反射层和第二反射层共同组成谐振腔，谐振腔对入射光场具有光束整形作用。本公开利用谐振腔的光束整形作用，压缩透射光场，抑制光学衍射效应，从而获得更高分辨率的曝光图形，提升曝光精度。
主权项：1.一种光刻板，其特征在于，包括：第一反射层、掩膜层和第二反射层；所述掩膜层设在所述第一反射层和所述第二反射层之间，用于对入射光场进行空间调制；所述第一反射层和所述第二反射层共同组成谐振腔，所述谐振腔对所述入射光场具有光束整形作用。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院上海技术物理研究所 光刻板、芯片模组及光刻机
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