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申请/专利权人:上海艾深斯科技有限公司
摘要:本发明涉及一种光刻胶组合物,包括如下组分:聚合物树脂10‑30份,有机溶剂50‑80份,光敏剂2‑5份,添加剂1‑3份;该组合物延长了光刻胶的保质期,并具有胶体均耐刻蚀的特性。
主权项:1.一种可延长ArF光刻胶保存期的添加剂,其特征在于包括式I化合物, 式I以及单环氧丁烯。
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百度查询: 上海艾深斯科技有限公司 一种延长Arf光刻胶保质期的添加剂、光刻胶组合物及其制备方法
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