龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司
摘要：本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法。MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法包括以下步骤：在晶圆的正面涂覆形成负胶层；在负胶层的正面涂覆形成正胶层；依照屋檐结构曝光图形对正胶层进行曝光，在正胶层中形成曝光区域和遮光区域，正胶层的曝光区域和遮光区域之间的交界处为正胶层的曝光边界；显影溶解掉正胶层的曝光区域、位于正胶层曝光区域下的负胶层和正胶层遮光区域下靠近曝光边界的部分负胶层，剩余正胶层的边缘延伸超过剩余负胶层的边缘。该MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法，可以解决相关技制造出的屋檐结构形貌不可控、不稳定的问题。
主权项：1.一种MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法，其特征在于，所述MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法包括以下步骤：在晶圆的正面涂覆形成负胶层；在所述负胶层的正面涂覆形成正胶层；依照屋檐结构曝光图形对所述正胶层进行曝光，在所述正胶层中形成曝光区域和遮光区域，所述正胶层的曝光区域和遮光区域之间的交界处为正胶层的曝光边界；显影溶解掉正胶层的曝光区域、位于所述正胶层曝光区域下的负胶层和所述正胶层遮光区域下靠近曝光边界的部分负胶层，剩余正胶层的边缘延伸超过剩余负胶层的边缘。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华虹半导体(无锡)有限公司 上海华虹宏力半导体制造有限公司 MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号