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真空载片装置及真空镀膜设备 

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申请/专利权人:苏州迈正科技有限公司

摘要:本发明提供了一种真空载片装置及真空镀膜设备,涉及真空镀膜设备技术领域,所述真空载片装置包括:腔体、载片架和分气模组,所述载片架和所述分气模组均位于所述腔体内部,且所述载片架和所述分气模组沿第一方向依次设置;所述分气模组包括进气口和出气口,以及连通进气口和出气口的通道,所述进气口与外界气源连通,以使外界的气体能够通过所述分气模组进入到所述腔体内部,所述出气口设置在所述分气模组的侧壁上,所述出气口朝向所述载片架的周向外侧。

主权项:1.一种真空载片装置,其特征在于,所述真空载片装置包括:腔体(100)、载片架(200)和分气模组(300),所述载片架(200)和所述分气模组(300)均位于所述腔体(100)内部,且所述载片架(200)和所述分气模组(300)沿上下方向依次设置,所述载片架(200)位于所述分气模组(300)上方;所述分气模组(300)包括进气口、出气口、以及连通进气口和出气口的通道,所述进气口与外界气源连通,以使外界的气体能够通过所述分气模组(300)进入到所述腔体(100)内部,所述出气口设置在所述分气模组(300)的侧壁上,所述出气口朝向所述载片架(200)的周向外侧;所述分气模组(300)包括多个填充块(310),每个所述填充块(310)上均设置有进气口和出气口。

全文数据:

权利要求:

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