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申请/专利权人：上海御微半导体技术有限公司
摘要：本发明实施例公开了一种缺陷检测装置及缺陷检测方法，该缺陷检测装置包括光源模块、标定散射片、相机和计算机模块；其中，光源模块用于向待检测物体表面的预设区域照射入射光，以经待检测物体表面的预设区域中的目标区域后形成第一散射光；光源模块还用于向待检测物体表面的预设区域照射入射光，以经标定散射片后形成第二散射光；相机位于第一散射光和第二散射光的传播光路上，相机用于接收第一散射光和第二散射光，并对应转化为第一光强分布函数和第二光强分布函数；计算机模块与相机电连接，计算机模块用于根据第二光强分布函数以及标准光强分布函数，确定光强分布校正函数，并根据光强分布校正函数对第一光强分布函数进行校正。
主权项：1.一种缺陷检测装置，其特征在于，包括：光源模块，所述光源模块用于向待检测物体表面的预设区域照射入射光，以经所述待检测物体表面的所述预设区域中的目标区域后形成第一散射光；标定散射片，所述标定散射片位于所述入射光的传播光路上且位于所述待检测物体表面的一侧，所述标定散射片在所述待检测物体表面的投影位于所述预设区域中，且与所述目标区域不交叠；所述光源模块还用于向所述待检测物体表面的预设区域照射入射光，以经所述标定散射片后形成第二散射光；相机，所述相机位于所述第一散射光和所述第二散射光的传播光路上，所述相机用于接收所述第一散射光和所述第二散射光，并对应转化为第一光强分布函数和第二光强分布函数；计算机模块，所述计算机模块与所述相机电连接，所述计算机模块用于根据所述第二光强分布函数以及标准光强分布函数，确定光强分布校正函数，并根据所述光强分布校正函数对所述第一光强分布函数进行校正。
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百度查询： 上海御微半导体技术有限公司 一种缺陷检测装置及缺陷检测方法
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