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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明提供了一种光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质，所述修正方法包括：提供初始光罩图形；采用基于模型的光学临近修正方法将初始光罩图形迭代至少一次，以获得初始参考光罩图形，及对应各分段上的边缘放置误差和光强；基于相邻分段相互影响模型由初始参考光罩图形得到各分段的移动补偿以获得第一次光罩图形，其中，相邻分段相互影响模型包括利用相邻分段之间光强的相互影响补偿当前分段；同理，继续迭代获得第k次光罩图形，直至迭代次数达到预设上限或者迭代次数小于预设上限时各分段上的边缘放置误差及移动补偿均小于或等于各自的预设值。本发明用于优化修正光罩图形时的迭代次数及收敛速率。
主权项：1.一种光学临近修正方法，其特征在于，包括：提供初始光罩图形M0，其包括若干分段t0～tn顺次围成其轮廓；采用基于模型的光学临近修正方法将所述初始光罩图形M0迭代至少一次，以获得初始参考光罩图形M0ref，及对应各分段上的边缘放置误差和光强；基于相邻分段相互影响模型由所述初始参考光罩图形M0ref各分段上的边缘放置误差和光强，计算得到各分段的移动补偿，并以此获得第一次光罩图形M1，其中，所述相邻分段相互影响模型包括利用相邻分段之间光强的相互影响补偿当前分段；采用基于模型的光学临近修正方法将所述第一次光罩图形M1迭代至少一次，以获得第一次参考光罩图形M1ref，并基于所述相邻分段相互影响模型由所述第一次参考光罩图形M1ref得到第二次光罩图形M2；同理，继续迭代获得第k次光罩图形Mk并获得其各分段上的边缘放置误差及移动补偿，直至迭代次数k达到预设上限或者迭代次数k小于预设上限时各分段上的边缘放置误差及移动补偿均小于或等于各自的预设值，输出所述第k次光罩图形Mk，k为大于或等于4的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质
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