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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：本揭露提供一种离子植入机毒性气体输送系统及其输送方法。离子植入系统包括离子植入机、掺杂剂源气体供应系统以及监控系统。离子植入机位于机壳内，且包括离子源单元。掺杂剂源气体供应系统包括位于气体机壳外的第一及第二掺杂剂源气体储存缸，配置为向离子源单元提供掺杂剂源气体，且第一及第二掺杂剂源气体供应管分别与第一及第二掺杂剂源气体储存缸耦接。第一及第二掺杂剂源气体供应管皆包括内管及包围内管的外管。监控系统与分别第一及第二掺杂剂源气体供应管的外管耦接。
主权项：1.一种离子植入系统，其特征在于，包括：一离子植入机，位于一外壳中，该离子植入机包括一离子源单元；一掺杂剂源气体供应系统，包括：一第一掺杂剂源气体储存缸及一第二掺杂剂源气体储存缸，位于该外壳之外的一气体机壳中，且配置为向该离子源单元供应一掺杂源气体；以及一第一掺杂剂源气体供应管及一第二掺杂剂源气体供应管，分别耦接于该第一掺杂剂源气体储存缸及该第二掺杂剂源气体储存缸，且该第一掺杂剂源气体供应管及该第二掺杂剂源气体供应管分别包含一内管及包围该内管的一外管；以及一监控系统，耦接于该第一掺杂剂源气体供应管的该外管及该第二掺杂剂源气体供应管的该外管，且配置为监控该第一掺杂剂源气体供应管及该第二掺杂剂源气体供应管的一渗漏，其中该监控系统包括耦接于该第一掺杂剂源气体供应管的一第一压力感测器，耦接于该第二掺杂剂源气体供应管的一第二压力感测器，以及耦接于该第一压力感测器及该第二压力感测器的一气体感测器及一真空泵浦。
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百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 离子植入机毒性气体输送系统及其输送方法
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