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投射镜头、投射曝光装置及投射曝光方法 

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申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

摘要:本发明揭露一种折射投射镜头PO,其通过来自超过280nm的紫外线范围的电磁辐射将配置在投射镜头的物平面OS中的图案成像到投射镜头的像平面IS,该折射投射镜头包含多个透镜元件,所述透镜元件沿光轴OA配置在物平面OS和像平面IS之间,其实施使得通过透镜元件能够将配置在物平面中的图案成像到像平面中,其中光阑位置BP适于附接位于物平面与像平面之间的孔径光阑AS,成像主射线在所述光阑位置处与光轴相交,所述透镜元件包含至少一个燧石透镜元件,其由具有相对低阿贝数的第一材料制成;以及至少一个冕牌玻璃透镜元件,其由具有阿贝数高于该第一材料的第二材料制成。具有正折射力的冕牌玻璃透镜元件与至少一个具有负折射力的燧石透镜元件且不超过两个具有负折射力的燧石透镜元件L16配置在光阑位置BP周围的光阑区域BB中,其中条件|CRHMRH|1适用于成像的主射线高度CRH与边缘射线高度MRH之间的射线高度比CRHMRH。

主权项:1.一种折射投射镜头PO,其通过工作波长在大于280nm的紫外线范围内的电磁辐射将配置在该投射镜头的物平面OS中的图案成像到该投射镜头的像平面IS,该折射投射镜头PO包含:多个透镜元件和无衍射光学元件,其沿着光轴OA配置在该物平面OS和该像平面IS之间,所述透镜元件实施使得配置在该物平面的图案能够通过所述透镜元件成像到该像平面,其中光阑位置BP适用于附接位于该物平面和该像平面之间的孔径光阑AS,成像主射线在该光阑位置处与该光轴相交;所述透镜元件包含至少一个燧石透镜元件,其由具有相对较低阿贝数的第一材料制成;以及至少一个冕牌玻璃透镜元件,其由阿贝数高于第一材料的第二材料制成;其特征在于至少一个具有正折射力的冕牌玻璃透镜元件以及至少一个具有负折射力的燧石透镜元件且不超过两个具有负折射力的燧石透镜元件配置在该光阑位置BP周围的光阑区域BB中,其中条件|CRHMRH|1适用于在成像的主射线高度CRH和边缘射线高度MRH之间的射线高度比CRHMRH。

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