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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：本发明涉及用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置和方法。曝光装置包括带电粒子光学装置，该带电粒子光学装置包括用于生成带电粒子束的带电粒子源和用于阻挡来自带电粒子源的带电粒子束的至少一部分的带电粒子阻挡元件和或限流元件。带电粒子阻挡元件和限流元件包括基本上平坦的衬底，该衬底设置有包含硼、碳或铍的吸收层。衬底还优选地包括用于透射带电粒子的一个或多个孔。吸收层被布置为与至少一个孔间隔开。
主权项：1.一种用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置，所述曝光装置包括用于形成带电粒子束并且将所述带电粒子束的至少一部分投影到所述目标上的带电粒子光学装置，所述带电粒子光学装置包括：用于生成所述带电粒子束的带电粒子源，以及透镜阵列，包括带电粒子阻挡元件，所述带电粒子阻挡元件被配置为阻挡来自所述带电粒子源的所述带电粒子束的至少一部分，其中所述透镜阵列包括多个衬底，使得所述带电粒子阻挡元件包括如下的衬底，所述带电粒子阻挡元件的所述衬底包括允许所述带电粒子束的至少一部分通过的至少一个孔，所述透镜阵列的所述衬底中的至少一个衬底包括被配置为根据所述带电粒子束形成多个束的多个孔，其中所述带电粒子阻挡元件的所述衬底的表面的一部分包括材料的吸收层，所述材料包括碳、硼B或铍Be，其中所述衬底的至少一部分包括被配置为从所述吸收层移除所吸收的电荷的导电材料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子阻挡元件、包括这样的元件的曝光装置以及使用这样的曝光装置的方法
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