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申请/专利权人：上海陛通半导体能源科技股份有限公司
摘要：本发明提供一种可防止前级管路气体回流的半导体制造设备及方法。设备包括：工艺腔体、前级管路、真空泵、第一真空计、第二真空计、防回流组件及控制器；防回流组件包括防回流气体源、防回流管路、质量流量控制器和蝶阀；防回流管路一端与防回流气体源连通，另一端与前级管路连通，工艺腔体到防回流管路与前级管路的连接处之间的前级管路的长度大于前级管路总长的二分之一；在真空泵以恒定功率处于持续开启的情况下，当监测到工艺腔体和前级管路均处于第一真空度时使防回流气体以第一流量流入前级管路，当工艺腔体到达第二真空度时，将气体流量增大到第二流量，第一真空度＜第二真空度＜工艺真空度。本发明有助于提高生产良率，降低生产成本。
主权项：1.一种可防止前级管路气体回流的半导体制造设备，其特征在于，所述半导体制造设备包括：工艺腔体、前级管路、真空泵、第一真空计、第二真空计、防回流组件及控制器；所述前级管路的两端分别与工艺腔体和真空泵连通；所述防回流组件包括防回流气体源、防回流管路，以及设置在防回流管路上的质量流量控制器和蝶阀；所述防回流管路一端与防回流气体源连通，另一端与前级管路连通，工艺腔体到防回流管路与前级管路的连接处之间的前级管路的长度大于前级管路总长的二分之一；所述第一真空计用于计量工艺腔体内的真空度，所述第二真空计用于计量前级管路中的真空度；所述控制器与第一真空计、第二真空计、质量流量控制器和蝶阀连接，以在真空泵以恒定功率处于持续开启的情况下，当在工艺生产前监测到工艺腔体和前级管路均处于第一真空度时使防回流气体以第一流量流入前级管路，当工艺腔体到达第二真空度时，将防回流气体流量增大到第二流量，当工艺腔体达到工艺真空度且要进行工艺生产时关闭防回流气体；其中，第一真空度＜第二真空度＜工艺真空度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 可防止前级管路气体回流的半导体制造设备及方法
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