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一种图形化蓝宝石复合衬底及其制备方法和应用 

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申请/专利权人:浙江丽晖智能装备有限公司;北京中企祥科技有限公司

摘要:本发明涉及一种制备图形化蓝宝石复合衬底的方法,该方法包括:使用激光雕刻出具有图形结构的硅片母模板,在所述硅片母模板上复刻出具有所述图形结构的软模板;在蓝宝石衬底的表面沉积SiO2薄膜层,得到蓝宝石复合衬底;然后在所述蓝宝石复合衬底上涂覆UV光刻胶;使用纳米压印将所述软模板上的图形结构转移到所述UV光刻胶上,在所述SiO2薄膜层上形成掩膜图形;对形成有所述掩膜图形的蓝宝石复合衬底进行电感耦合等离子体刻蚀,得到图形化蓝宝石复合衬底。通过使用激光雕刻技术和纳米压印技术,可以快速制备硅片母模板,减少了工艺流程步骤,使得制备效率高。

主权项:1.一种制备图形化蓝宝石复合衬底的方法,其特征在于,该方法包括:使用激光雕刻出具有图形结构的硅片母模板,在所述硅片母模板上复刻出具有所述图形结构的软模板;在蓝宝石衬底的表面沉积SiO2薄膜层,得到蓝宝石复合衬底;然后在所述蓝宝石复合衬底的所述SiO2薄膜层上涂覆UV光刻胶;使用纳米压印将所述软模板上的图形结构转移到所述UV光刻胶上,在所述SiO2薄膜层上形成掩膜图形;对形成有所述掩膜图形的蓝宝石复合衬底进行电感耦合等离子体刻蚀,得到图形化蓝宝石复合衬底。

全文数据:

权利要求:

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