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申请/专利权人：东京应化工业株式会社
摘要：一种抗蚀剂组合物，含有：树脂成分A1，具有包含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元a1、以通式a10‑1表示的结构单元a10、及以通式a5‑1表示的结构单元a5；树脂成分Z，具有以通式z1‑1表示的结构单元z1且不含酸解离性基团式中，Wax1为芳香族烃基，Ra5为形成环骨架的一部分碳原子可被氧原子取代的酸非解离性的脂肪族环式基，Rz0为氢原子或不含酸解离性基团的烃基。
主权项：1.一种抗蚀剂组合物，是通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：树脂成分A1，具有包含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元a1、以下述通式a10-1表示的结构单元a10、及以下述通式a5-1表示的结构单元a5；树脂成分Z，具有以下述通式z1-1表示的结构单元z1且不含酸解离性基团，【化1】 式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Yax1为单键或2价连接基团，Wax1为可具有取代基的芳香族烃基，nax1为1以上的整数，【化2】 式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Ra5是形成环骨架的一部分碳原子可被氧原子取代的酸非解离性的脂肪族环式基，【化3】 式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Vz0为单键或可含杂原子的2价烃基，其中，在Vz0为可含杂原子的2价烃基的情况下，Vz0不含酸解离性基团，Rz0为氢原子或以下述通式z1-r-1表示的基团，【化4】 式中，Rz01为可具有取代基的烃基，Rz02为氢原子或可具有取代基的烃基，Rz01与Rz02可以相互键合而形成环结构，其中，Rz01及Rz02不含酸解离性基团，*为化学键。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京应化工业株式会社 抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
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