龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：西北工业大学;贵州大学
摘要：本发明属于耐磨合金材料技术领域，涉及一种超硬耐磨难熔高熵合金薄膜及其制备方法。所述的超硬耐磨难熔高熵合金薄膜具有超细纳米晶、硬度耐磨性能超常等特征。所述的制备方法包括以下步骤：制备NbMoWTa难熔高熵合金靶材；所述的溅射靶材是通过Nb、Mo、W、Ta金属粉末球磨混合后，在高温下进行等离子体烧结而成；采用磁控溅射法将所得到的难熔高熵合金靶材在硅基底上溅射成膜，得到超硬耐磨难熔高熵合金薄膜。本发明制备工艺简单、稳定可控；所得到的产品晶粒细小均一、力学性能和耐磨性优异。这为实现难熔高熵合金在极端工程应用提供了必要条件。
主权项：1.一种超硬耐磨难熔高熵合金薄膜，其特征在于：包括以下等原子百分比的合金组分：Nb、Mo、W、Ta；所述超硬耐磨难熔高熵合金薄膜具有单相BCC固溶体结构，晶粒尺寸不高于25nm，薄膜厚度在3.0～3.5μm；所述超硬耐磨难熔高熵合金薄膜的原始组织表现出周期性为5～10nm的调幅层状分解亚结构；所述超硬耐磨难熔高熵合金薄膜的纳米压入硬度在20～25GPa，磨损率在1.0×10-5～1.4×10-5mm3N·m；该超硬耐磨难熔高熵合金薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：步骤一：溅射靶材的制备：将各单质元素Nb、Mo、W、Ta金属粉末按照等摩尔比例使用高能球磨法混合24～30h，随后在1500～1700℃下采用等离子体烧结技术制备出具有等原子比的NbMoWTa难熔高熵合金靶材；步骤二：薄膜沉积：通过磁控溅射技术将步骤一所得到的合金靶材在硅基底上溅射成膜，溅射功率为100～120W，偏置电压为-80～-100V，得到超硬耐磨难熔高熵合金薄膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西北工业大学 贵州大学 一种超硬耐磨难熔高熵合金薄膜及其制备方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号