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申请/专利权人：北京中科重仪半导体科技有限公司
摘要：本发明提出了一种气相沉积设备及其控制方法、装置和电子设备，涉及气相沉积技术领域，气相沉积设备的控制方法包括：接收上位机发送的工艺配方数据，工艺配方数据为完整的生产流程的数据；将工艺配方数据存储在第一数据库中；根据第一数据库中的工艺配方数据，控制气相沉积设备运行。本发明提出的气相沉积设备的控制方法，能够提升气相沉积设备的稳定性。
主权项：1.一种气相沉积设备的控制方法，其特征在于，包括：接收上位机发送的工艺配方数据，所述工艺配方数据为完整的生产流程的数据；将所述工艺配方数据存储在第一数据库中；根据所述第一数据库中的所述工艺配方数据，控制所述气相沉积设备运行。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京中科重仪半导体科技有限公司 气相沉积设备及其控制方法、装置和电子设备
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