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多射束描绘方法以及多射束描绘装置 

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申请/专利权人:纽富来科技股份有限公司

摘要:本发明涉及多射束描绘方法和多射束描绘装置。一个方式的多射束描绘方法基于像素尺寸和射束阵列信息,取得用于使担当射束向试样上的描绘区域被多射束的射束间间距尺寸分割而成的多个射束间间距区域的各射束间间距区域内的多个像素偏转的多个偏转坐标、在为了使多射束的各射束一起追随工作台的移动而进行的各跟踪控制期间中担当射束在各射束间间距区域内进行曝光的像素数、以及在经过跟踪控制期间后进行将跟踪开始位置复位的跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量,制作使用多个偏转坐标、在各跟踪控制期间中进行曝光的像素数以及进行跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量而定义的偏转次序,一边根据偏转次序使多射束偏转一边对试样描绘图案。

主权项:1.一种多射束描绘方法,其特征在于,取得可变的像素尺寸和对曝光所使用的射束阵列进行定义的射束阵列信息,基于所述像素尺寸和所述射束阵列信息,取得用于使担当射束向多个射束间间距区域的各射束间间距区域内的多个像素偏转的多个偏转坐标、在为了使多射束的各射束一起追随工作台的移动而进行的各跟踪控制期间中担当射束对各射束间间距区域内进行曝光的像素数、以及在跟踪控制期间经过后进行跟踪复位的情况下的所述多射束的偏转移动量,所述多个射束间间距区域是试样上的描绘区域被多射束的射束间间距尺寸分割而成的,所述跟踪复位将跟踪开始位置复位,制作偏转次序,该偏转次序是使用所述多个偏转坐标、在所述各跟踪控制期间中进行曝光的所述像素数以及进行所述跟踪复位的情况下的所述多射束的偏转移动量而定义的,一边根据所述偏转次序使所述多射束偏转,一边对所述试样描绘图案,使用识别信息来运算进行所述跟踪复位的情况下的所述多射束的偏转移动量,所述识别信息对至少在描绘区域的描绘中所述射束间间距尺寸固定的所述多射束中的曝光所使用的射束阵列进行识别。

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权利要求:

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