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申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本申请提供一种半导体工艺设备，涉及半导体设备技术领域。半导体工艺设备包括工艺腔体。工艺腔体包括本体、加热盘、喷淋板和隔热板。加热盘设置于工艺腔体内，且与本体的底壁间隔设置，喷淋板与加热盘间隔且对应设置。本体设置有用于与传输腔体连通的传输通道。隔热板设置于本体的底壁与加热盘之间，且隔热板与传输通道对应的区域形成有缺口。可以提高镀膜的均匀性。
主权项：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括工艺腔体，所述工艺腔体包括本体、加热盘、喷淋板和隔热板；所述加热盘设置于所述工艺腔体内，且与所述本体的底壁间隔设置，所述喷淋板与所述加热盘间隔且对应设置；所述本体设置有用于与传输腔体连通的传输通道；所述隔热板设置于所述本体的底壁与所述加热盘之间，且所述隔热板与所述传输通道对应的区域形成有缺口。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 半导体工艺设备
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