龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本发明提供了薄膜沉积设备、薄膜沉积方法及计算机可读存储介质。所述薄膜沉积设备包括工艺腔室、工艺气源、抽气机构及补气模块。所述工艺腔室用于容纳待加工的晶圆，并对其进行薄膜沉积工艺。所述工艺气源用于向所述工艺腔室提供工艺气体，并响应于一警报信号而关闭。所述抽气机构包括真空泵及节流阀。所述真空泵经由所述节流阀连接设于所述工艺腔室的抽气口。所述节流阀响应于所述警报信号而先在其关断延迟时间内逐渐关闭，再根据预设的工艺终止曲线逐渐开启，以控制所述工艺腔室中的气压按所述工艺终止曲线下降到结束所述薄膜沉积工艺的终点气压。所述补气模块响应于所述警报信号而在所述节流阀的关断延迟时间内向所述工艺腔室提供补充气体。
主权项：1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：工艺腔室，用于容纳待加工的晶圆，并对其进行薄膜沉积工艺；工艺气源，用于向所述工艺腔室提供工艺气体，并响应于一警报信号而关闭；抽气机构，包括真空泵及节流阀，其中，所述真空泵经由所述节流阀连接设于所述工艺腔室的抽气口，所述节流阀响应于所述警报信号而先在其关断延迟时间内逐渐关闭，再根据预设的工艺终止曲线逐渐开启，以控制所述工艺腔室中的气压按所述工艺终止曲线下降到结束所述薄膜沉积工艺的终点气压；以及补气模块，响应于所述警报信号而在所述节流阀的关断延迟时间内向所述工艺腔室提供补充气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 薄膜沉积设备、薄膜沉积方法及存储介质
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号