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申请/专利权人：舜宇奥来微纳光学(上海)有限公司
摘要：本发明提供了一种衍射光波导及其的加工方法。衍射光波导包括：基底；耦出刻蚀光栅区，耦出刻蚀光栅区设置在基底上；压印层，压印层和耦出刻蚀光栅区位于基底的同一侧表面上，且耦出刻蚀光栅区被压印层填充包覆，压印层远离基底的一侧表面具有耦入压印光栅区，耦出刻蚀光栅区的光栅和基底的夹角与耦入压印光栅区的光栅和基底的夹角不同。本发明解决了现有技术中的衍射光波导存在光学性能提升困难的问题。
主权项：1.一种衍射光波导，其特征在于，包括：基底10；耦出刻蚀光栅区22，所述耦出刻蚀光栅区22设置在所述基底10上；压印层，所述压印层和所述耦出刻蚀光栅区22位于所述基底10的同一侧表面上，且所述耦出刻蚀光栅区22被所述压印层填充包覆，所述压印层远离所述基底10的一侧表面具有耦入压印光栅区41，所述耦出刻蚀光栅区22的光栅和所述基底10的夹角与所述耦入压印光栅区41的光栅和所述基底10的夹角不同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 舜宇奥来微纳光学(上海)有限公司 衍射光波导及其的加工方法
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